硅片去除研磨損傷深度的拋光工藝所用液體材料稱拋光液。常見的有二氧化硅拋光液及三氧化鉻拋光液。
拋光液是由多種化工溶液配制而成的溶液，它在拋光工藝中有重要的地位，合理選擇拋光液，能使加工出來的工件表面光亮美觀，色澤鮮艷，光亮奪目，還可以防止工件的銹蝕，保持與提高工件表面的光澤，起到清潔工件與磨具的作用。去除油污，軟化工件表面以加速磨消，減少磨具對(duì)工件的沖擊，改善工件條件。它具有無毒，無腐蝕，不易變質(zhì)等性能。
機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過程：
?。?）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。
?。?）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動(dòng)力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。
硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。
拋光液的種類很多，應(yīng)根據(jù)加工條件來選擇。在光整效率，工作的研磨質(zhì)量，拋光的光潔度等方面。拋光液都顯示出其獨(dú)特的效果。
拋光液按拋光的材質(zhì)不同分為：BD-H001型低碳鋼常溫化學(xué)拋光液 BD-H201型鋁件化學(xué)拋光液 BD-H302型不銹鋼化學(xué)拋光液
BD-H001型低碳鋼常溫化學(xué)拋光液：
BD-H001型低碳鋼常溫化學(xué)拋光液對(duì)低碳鋼工件有良好的拋光效果，最佳效果能達(dá)到鏡面光亮，外觀可與裝飾鉻媲美。使用本品拋光，可提高工效，還可縮短鍍鎳時(shí)間。
BD-H201型鋁件化學(xué)拋光液是專門為提高鋁制品表面光潔度而設(shè)計(jì)的一種化學(xué)拋光液，鋁制品經(jīng)過本品拋光后，可達(dá)到鏡面亮度，可作為鋁制品成品裝飾用，也可作為鋁制品表面處理過程中的中間工序使用。本品為淡藍(lán)色透明狀液體。
BD-H302型不銹鋼化學(xué)拋光液不受零件形狀、體積限制，可以改變不銹鋼制品機(jī)械損傷層和應(yīng)力層，提高機(jī)械強(qiáng)度，效率高，表面精飾效果好。
相關(guān)搜索：拋光液 液體拋光臘 拋光機(jī)專用臘
