自動拋光機專用臘（簡稱 “拋光蠟”）是一種配合自動拋光設備使用的研磨材料，主要用于金屬、塑料、玻璃、石材等工件表面的去毛刺、除銹、研磨、鏡面拋光等工藝。
其核心作用是通過臘體中的磨料顆粒與工件表面的機械摩擦，去除表面缺陷并形成光亮表面，同時臘體中的油脂成分可起到潤滑、冷卻和防銹作用。
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自動拋光機專用臘有哪些關鍵技術指標與性能要求？
1. 磨料粒度與分布
粒度號（目數(shù)）：
粗拋：80#-400#（顆粒粒徑 425-38μm），用于去除明顯缺陷。
精拋：600#-2000#（粒徑 25-7μm），用于表面細化。
鏡面拋光：3000# 以上（粒徑≤5μm），配合軟質拋光輪實現(xiàn)光亮效果。
粒度均勻性：磨料顆粒大小偏差需控制在 ±5% 以內，避免粗細顆?；旌蠈е聮伖獗砻娲植诙炔痪?。
2. 蠟基熔點與軟化點
熔點：固體蠟的熔點需高于拋光過程中產生的摩擦熱（通常 50-120℃）避免蠟體過早融化流失。
軟化點：膏狀蠟在室溫下應保持固態(tài)，接觸拋光輪高溫區(qū)域時（約 60-80℃）迅速軟化釋放磨料。
3. 粘附性與脫附性
粘附性：蠟體需牢固附著在拋光輪表面，避免高速旋轉時飛散（如離心力≥5000rpm 時的保持力）。
脫附性：拋光后殘蠟需易于用酒精、溶劑或超聲波清洗去除，避免影響工件后續(xù)電鍍、噴涂等工序。
4. 環(huán)境適應性
耐水性：水性拋光蠟需在潮濕環(huán)境下保持穩(wěn)定性（如石材拋光時的水冷卻工藝）。
耐腐蝕性：用于鋁合金等易腐蝕金屬時，蠟體需不含氯離子（Cl?≤10ppm）防止電化學腐蝕。
